了解可使用設施供水系統(tǒng) (FWS) 水或技術冷卻系統(tǒng) (TCS) 水直接冷卻數(shù)據(jù)通信設備的具體水處理程序和要求。

我。冷卻塔水冷系統(tǒng)概述

數(shù)據(jù)通信設備冷卻系統(tǒng)（DECS）是一種水循環(huán)，其中水與要冷卻的組件接觸。在某些情況下，水在機架內部提供，或者可以在外部提供，服務于多個機架。有關數(shù)據(jù)中心中潛在的液體冷卻系統(tǒng)和電路以及使用的術語的詳細信息。

指定的水質標準僅適用于與計算組件接觸的 DECS 水回路。還描述了持續(xù)監(jiān)控和維護程序。

冷卻回路硬件主要由耐腐蝕合金組成，例如銅合金和不銹鋼。 EPDM 橡膠必須形成系統(tǒng)中所有軟管的內襯。冷卻水的化學成分必須保持適當，以避免系統(tǒng)因四種常見的水相關問題中的任何一種而中斷或停機：腐蝕、微生物生長、結垢和結垢。

水處理的細節(jié)取決于當?shù)厥姓斁质欠裨试S將含有某些清潔化學品的水排放到下水道。如果當?shù)卣辉试S污染水排入下水道，可在水冷回路中加去離子旁路，將水凈化至電阻率>0.1MΩ.cm（電導率<10μS/cm），然后倒入水流入下水道。在處理任何水之前，您有責任查看當?shù)胤ㄒ?guī)。

二、深圳冷卻塔涉水問題

必須妥善處理水，避免以下常見涉水問題：腐蝕、微生物滋生、結垢和結垢。這些問題中的任何一個都會顯著降低冷卻效率并增加系統(tǒng)停機的風險。

1.腐蝕 - 腐蝕可以有多種形式。與冷卻回路相關的常見腐蝕形式包括：

均勻腐蝕，也稱為全面腐蝕，是指從表面空間均勻去除金屬。這是典型的預期腐蝕模式。

點蝕是金屬表面的局部腐蝕，在銅管的情況下會導致漏水，典型的平均故障時間約為 2 年。

當電偶序列中相距很遠的兩種金屬發(fā)生電接觸并浸入相同的水環(huán)境中時，就會發(fā)生電偶腐蝕。接觸的兩種金屬之間產生的電位差迫使電子從較不貴重的金屬流向較貴重的金屬。腐蝕發(fā)生在不太貴重的金屬表面，釋放電子，這些電子通過可以采用多種化學形式的還原反應在貴金屬表面消耗掉。例子是金屬離子的還原或氧氣和水的消耗形成氫氧根離子。即使沒有電接觸，鋁也會被銅腐蝕，因為溶解的低濃度銅離子沉積在鋁表面，形成電偶腐蝕。

2.微生物生長 - 水冷卻系統(tǒng)中的微生物生長會導致冷卻回路內出現(xiàn)沉積物、污垢和腐蝕。防止微生物生長包括確保冷卻回路硬件由不含活生物體的組件組裝而成，并用殺菌劑處理以控制細菌數(shù)量。為避免生物滋生，水冷回路必須干燥運輸和儲存。在運輸和儲存之前，必須盡一切努力吹干水并盡可能干燥水冷卻回路。

3.水垢形成 - 水垢是致密的粘附材料沉積在冷卻回路表面上。當由于高濃度或溫度升高而超過鹽在水中的溶解度時，就會發(fā)生結垢。

4.污垢 - 冷卻回路的污垢是非污垢物質（如腐蝕產物和有機物）的沉積。眾所周知，鐮刀菌等真菌會生長、污染和堵塞過濾器和細翅片散熱器。它們通常生長在冷卻塔水槽或水槽的水線處。

3.避免與水有關的問題

以下最佳實踐可用于避免深圳冷卻塔中與水有關的問題問題：

按設計清潔 - 將水濕冶金限制在銅合金和不銹鋼。避免使用會生銹和污染水冷回路的普通碳鋼硬件。

建立清潔 - 確保冷卻回路組件清潔且無細菌和真菌。冷卻回路組件必須不含焊料、助焊劑或兩者。裝配工作必須使用干凈的水。任何剩余的水必須從組件中吹出。成品組件必須清潔干燥。

運輸清潔 - 在任何運輸之前，必須將組裝、測試操作或兩者中殘留的水從冷卻回路中吹出，以避免腐蝕和微生物生長。在最后一步中，使用氮氣干燥系統(tǒng)。塞住兩端并用氮氣加壓的冷卻回路運送系統(tǒng)。

安裝清潔度 - 在安裝步驟中必須保持冷卻回路清潔。釬焊優(yōu)于焊接。焊接的問題是多孔接頭不斷浸出助焊劑殘留物。必須清除所有助焊劑殘留物。用干凈的水填充系統(tǒng)，如果可能的話，在添加殺菌劑和腐蝕抑制劑之前，包括第二步對冷卻回路中的水進行去離子處理。

保持清潔 - 監(jiān)測并保持 pH 值、水電導率、細菌數(shù)量和腐蝕抑制劑濃度。

四個。冷卻塔水質要求

使用以下要求來規(guī)劃冷凍水系統(tǒng)中的水質：

最初填充系統(tǒng)側冷卻回路所需的水必須相對干凈的無菌水（低于 100 CFU/ml），例如軟化水、反滲透水、去離子水或蒸餾水。必須使用在線 50μm 過濾器過濾水。

如果無法獲得相當干凈的水，建議遵循以下準則。它對大型冷卻回路特別有用：在這種方法中，水在任何機架連接到水回路之前被去離子。

在向水中添加任何化學品之前，確保系統(tǒng)水是干凈的非常重要。這是通過使用安裝在冷卻回路中的去離子盒對水進行去離子來實現(xiàn)的。即使在用去離子水填充系統(tǒng)時，去離子步驟也是謹慎的，原因有兩個：首先是確保起始水是去離子的，其次是去除可能從冷卻回路壁上浸出的任何離子。

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